以X射線為光源的光刻技術(shù)領(lǐng)域迎來重大突破。一家名為Substrate的初創(chuàng)企業(yè)宣布，其計算光刻技術(shù)堆棧在引入谷歌DeepMind的AlphaEvolve編程智能體后，實現(xiàn)了性能的飛躍式提升。

在短短一個月內(nèi)，Substrate的計算光刻工作負載運行速度提升了680%，計算成本大幅降低97%，內(nèi)存用量也減少了94%。這一成果得益于AlphaEvolve對技術(shù)堆棧的深度優(yōu)化，在確保底層物理規(guī)律完整性的前提下，顯著降低了計算所需的分辨率要求。

技術(shù)團隊通過調(diào)整代碼數(shù)據(jù)類型，使這類工作負載能夠高效運行于谷歌TPU的算力平臺上。更令人矚目的是，AlphaEvolve的引入讓Substrate能夠自動化探索數(shù)十萬個潛在算法改進點，徹底改變了傳統(tǒng)研發(fā)模式。這種自動化探索能力使研發(fā)團隊無需依賴大量實際測試，即可精準定位技術(shù)弱點并制定改進方案。

在具體應(yīng)用層面，Substrate借助AlphaEvolve的支持，僅通過單次光刻工藝就實現(xiàn)了12納米特征尺寸的雙向M1金屬互聯(lián)層制造。這一精度指標已達到High NA EUV系統(tǒng)的水平，標志著X射線光刻技術(shù)在先進制程節(jié)點上取得關(guān)鍵突破。該成果不僅驗證了新型計算架構(gòu)的可行性，更為半導(dǎo)體制造領(lǐng)域提供了新的技術(shù)路徑選擇。